该系列是采用高效双流体喷嘴结构的最新型号汽化器。
与VU-450系列相比,该系列汽化器通过增加汽化室的体积(到Gas Outlet 的距离加长),改善了对流时间和热交换面积,可避免未气化完成的雾化液体進入反应腔,由此可实现更大流量的汽化。
最适合Low-K(低介电常数材料)、High-k(高介电常数材料)和各种低蒸气压的金属材料的大流量汽化供应。
该汽化器为阀门集成汽化器,若与LM-3000L结合使用,可直接控制即将进入汽化器的液体流量,从而提高气体流量控制的应答速度。
特点
- 高效率汽化
- 维护成本低
- 汽化室附近搭载液体流量控制阀
- 喷嘴到气体出口距离加长
使用范例
半导体材料的汽化供给CVD、ALD
通过对汽化室进行增扩,从中央双流体喷嘴喷出的雾气比VU-450扩散得更多,可以稳定地实现液体为TEOS时30g/min、H2O时5g/min的大流量汽化。
规格表
最高温度 | 载气流量 | H2O汽化量 | TEOS汽化量 | 密封材 |
200℃ | 0.8~130SLM | 5g/min | 30g/min | Au、全氟橡胶 |
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